vapour deposition

  • 释义

    气相淀积法;汽相淀积

数据更新时间:2025-11-14 16:49:49
1、

Update the processing methods to make SOFC from solid electrolytical film are by chemical vapour deposition, electrophoretic deposition, flow stretching, sputtering, plasma sputter coating, etc.

目前,SOFC用固体电解质薄膜制备方法有电化学气相沉积法、化学气相沉积法、电泳沉积法、溅射法、等离子喷涂法等。

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2、

Investigation and application of microwave electron cyclotron resonance plasma physical vapour deposition

微波ECR等离子体物理汽相沉积研究和应用

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3、

The vapour generator for chemical vapour deposition plants allows the extraction of vapours.

用于化学汽相沉积器的蒸汽发生器允许蒸汽抽提.

网络文摘精选

4、

Developments of diamond films by plasma chemical vapour deposition are reviewed in the paper.

本文评述了化学气相沉积法制备人造金刚石薄膜的进展情况.

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5、

The present article introduces a new technique of chemical vapour deposition titanium Carbide.

本文介绍了一种新的化学气相沉积碳化钛方法。

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6、

The continuous SiC fibers coated with B 4 C using chemical vapour deposition ( CVD ) were made.

采用化学气相沉积 ( CVD ) 方法,在连续SiC纤维 表面沉积一层B4C涂层.

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7、

High quality amorphous silicon films fabrication by hot wire chemical vapour deposition technique

用热丝法制备优质稳定非晶硅薄膜的研究

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8、

For the high technical maturity and the high deposition quality, traditional plasma enhanced chemical vapour deposition ( PECVD) technology was wide applied in the large-scale industrial production.

传统等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,工艺成熟,制备的薄膜质量高,较适合大规模工业化生产。

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